AS 5500光刻机在美国和曰本同步隆重推出。
这一次ASML推出了的PAS5500 扫描式步进光刻机，拥有此时半导体行业领先的生产力和分辨率，一经发售，短短几天就被欧美各大厂商青睐。此时在曰本也已经引起了东芝和日立等曰本本土厂商关注。
而历史上，也正是PAS 5500取得了巨大成功。就是在二十年后，任有5500系列的机子被大量使用，由此可见PAS 5500系列的光刻机产品的性能和稳定性。
正是这5500系列的推出，标志着ASML 在欧美厂商的支持下开始走向成熟。
不同于ASML成立之初推出坑爹的油压机械式PAS 2000，1986 年，ASML公司采用新的对中技术推出 PAS 2500 步进式光刻机，开始在市场上建立起一定的名气，同年与镜片制造商CarlZeiss建立合作伙伴关系。
有了PAS 2500型光刻机带来的市场和利润，ASML励精图治，在今年也就是十天前正式推出了PAS 5500型光刻机。
只是，PAS 5500为ASML赚足了眼球和大量订单的同时，也让尼康为首的一帮曰本厂商警惕，警惕这个之前一直未曾瞧在眼里的光刻机小弟弟。
看到半导体厂商开始份份接触ASML，以及心急的已经下了订单，尼康和佳能也坐不住了，开始联系半导体制造大厂。
只是除了曰本的厂商积极赴约之外，其他的欧美厂商只是客气答应，但就是不见人影。
不过这也可以理解的。半导体设备的更新换代，推动半导体工艺、半导体产品及整个电子装备的更新。
因此，从本质上讲，半导体设备不仅支撑集成电路产业的发展，同时也支撑整个电子信息产业的发展。
半导体设备包括前道设备、后道设备、制版设备、材料制备设备等，其中最为关键的是前道微细加工设备(包括对半导体芯片进行曝光、刻蚀、掺杂、薄膜生长等工艺加工的设备，以及测量设备)。
而微细加工技术的核心，是微细光刻技术，光学光刻设备的进步。
自20世纪80年代后期，光学光刻技术的重点由Q线转向i线和准分子。到90年代初i线光刻开始应用。。
在ASML推出PAS-5500之后，后续日本厂商陆续推出了自己第一款i线步进投影光刻机，比如曰本Nikon NSR17
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