机生产线的，不过3纳米和7纳米这两者之间在某些方面是有共同性的，而在这里选择3纳米生产线，整个生产线可以使用生产。
他们研究所其实已经弄出来了7纳米光刻机，甚至3纳米的光刻机他们也有了眉目。
之所以没有办法使用，是因为不管7纳米还是3纳米，他们的良品率简直惨不忍睹，现实中根本无法使用，因为那代价太高了，制造出来的芯片价格根本让人无法承受，这样的光刻机哪有什么竞争力？
但是在幻境模拟程序或者说盘古程序里面，这就不存在问题了，反正这些都是数据模拟的，良品率就算只有1%又怎么样？反正他们是为了测试芯片性能的。
而另外一组光刻机设计小组的进度反而就快的多了，现实中他们设计出了7纳米的光刻机，但是良品率太感人，所以那光刻机也就是看一看，有个噱头，没什么实际使用价值。
毕竟人家国外公司的7纳米光刻机早就已近被代工厂购买并且代工生产了，华威的手机芯片采用7纳米制造技术都生产了好几代了，他们的光刻机纯粹是砸钱为了提升国家在这方面的技术储备而存在的。
因为没有其他来源收入，所以光刻机的改进必然速度缓慢，不能生产足够的芯片，发现问题的速度自然就慢，因为他们要节约资金啊。
但是在这程序里面呢，他们可以无限制生产，生产多少不过就是一个模拟数据而已。
只是在生产过程当中，完全按照他们设计的7纳米光刻机的输入的数据都是参照现实中的生产数据反应来进行的，包括这些光刻机所使用的程序等等都是这样。
于是在无限制生产的过程当中，所能够爆发出来的问题自然不断的出现。
整个光刻机设计小组立刻开始根据这些问题不断的开始调整自己的光刻机，很多设备都是使用的足够多才能够发现问题的。
因为江彦海就在这个科研所的附近，二蛋调用数据的速度很慢，幻境模拟程序里面给出的结果也很快。
仅仅两天多的时间，科研所光刻机设计小组所设计出来的7纳米光刻机的良品率从开始程序模拟的不到40%的良品率，极具提升到了90%！
90%的良品率在现实中还有点低，像是一些代工企业的良品率至少在95%左右，甚至经过人员熟练，设备调整等方面可以达到98%。
但是90%的良品率，尤其是国内一直都处于国际落后技术的芯片制造，已经极具生产价值了！
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