几家厂商有技术上的交流。”
罗晟点点头没有多说什么，旋即看向刚刚那位光刻胶项目负责人问道：“新思路方面的具体进展有哪些？”
“项目组正在开展负性光刻胶课题论证研究，其分子大小是CAR有机光刻胶的五分之一，重点是光吸收率可以达到CAR的四到五倍，超算验证结果显示能更精密、更准确的让电路图成型。”
罗晟从内部数据库查看了一下，自顾自地点头道：“干式光刻胶技术可以重点投入，这种全新的EUV干式光刻胶技术，取代传统的CAR光刻胶对于半导体工艺的演进大有可为，可能会是一个巨大的突破点。”
这个新技术的优势在于提升极紫外光刻技术的敏锐度和分辨率，更可以减少原本五到十倍的光刻胶使用量，在成本节约上带来显著成果。
新的技术节点下诞生的芯片，成本是很高昂的，尤其是前期阶段。
在当下业内以有机化学放大光刻胶CAR和无机光刻胶n-CAR为主导下，都是采用液态光刻胶技术，研究新型EUV光刻胶技术不只是蔚蓝海岸实验室，海外的厂商都在积极推进新技术的开发，毕竟极紫外光刻技术是大趋势，这是不会改变的事实了。
但只有蔚蓝海岸实验室的新型EUV光刻胶技术是基于干式沉淀的技术，这一点算是独创技术。
目前主流的光刻胶技术是CAR，也即是把液态光刻胶搭配涂布机设备旋涂到晶圆上，在使用溶剂曝光后再去除掉。
而蔚蓝海岸实验室的这种新式技术有别于传统液态光刻胶涂布方式，改在腔体中进行化学反应，让干式光刻胶在化学气相沉积或原子层沉积里制造，之后再以刻蚀工艺去除掉。
这样的优点在于可以提升成像的敏感度、分辨率和极紫外光刻曝光的分辨率。
更重要的是可以改善工艺晶圆的成本，这些优势都是更先进的工艺的体现。
罗晟关闭数据面板，把工作电脑放一边，说道：“只要干式光刻胶技术搞定了，我们就可以与日本设备材料产生形成两个阵营了，可以冲破既有的半导体技术规则，这非常关键，整个产业也会带来深远的改变。没什么好说的了，我们已经投入了这么多，除了胜利，没有第二条路可以选择。”
在场的每一个人都默默的点头，也是战意勃发，眼下的突破给了团队巨大的信心。
的确是除了胜利，没有第二条路可以选择了，也相信必然取得胜利。
临时的会议探讨结束了
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