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第260章 难以跨越的鸿沟

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采用五掩膜工艺,就是利用5块掩膜,通过5道相同的图形转移工艺,完成TCC层状结构的加工!

“而图形转移积工艺由淀积、光刻、刻蚀、清洗、检测等工序构成,他的其具体流程就是:开始——玻璃基板检验——薄膜淀积——清洗——覆光刻胶!

曝光——显影——刻蚀——去除光刻胶——检验——结束。

“其中刻蚀方法用到的就是离子刻蚀,这个设备也没办法购买,也是我们自己设计并制造了。”刘林说站了起来,从饮水机上拿了几个杯子下来,一个倒了一杯之后,便继续道。

“老板这个,滤光板加工工艺:是由阻光器加工,滤光器加工,滤光器加工,ITO淀积,一共五个步骤完成,但这各个加工难度都是一个比一个难的技术难题,而这些工加又要用到WAQ光刻机,和QQE过滤机,这些设备别说我们国内,国外都没有!”吴灿面色发苦的看了眼刘林,这都是一道道难以跨越的鸿沟。

这难度可以说是直训宇宙了!

能不能行要打个大问号?

“对!”刘林点点凝重的点点头,又接着道:“滤光板加工工艺的作用就是在基板上加工出TCC薄膜结构,在滤光基片上设置的一系列由不透光材料制成的并以矩阵形状分布的黑点,它们通过相应的图形转移工艺!”

“并安排于滤光器加工工艺的开始阶段,转移工艺依次包含如下工序:溅射淀积、清洗、光刻胶涂覆、曝光、显影、湿法刻蚀和去除光刻胶,各工序基本原理;溅射淀积,清洗,光刻胶涂覆,曝光,显影,湿法刻蚀,去除光刻胶。”

“阻光器加工完毕后,进入滤光器加工阶段,三种滤光器(红、绿、蓝)分别通过三次图形转移工艺完成加工,由于三种滤光器直接由不同颜色的光刻胶制成,该图形转移工艺与前述图形转移工艺有所不同,它不包含刻蚀和除光刻胶的工序。”

“阻光器加工结束后,经过清洗和检测工序后,进入ITO淀积工艺,最后在滤光器层上敷上一层导电玻璃氧化铟锡(Indium Tin Oxide,简称ITO),形成滤光板的公共电极。”

“基本技术难题就是这些了,如果这些都能解决那HCC屏幕,便自然应然而生了!”刘林说放下手中的资料,揉了揉有眯发痛的太阳穴!

“老板你没事了吧!”刘苛看着刘林面前还有一打厚厚的资料,不由的也感到面鸭梨山大!

无数的设备,无数的材料,都要慢慢设计加验证!


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